Nanowire lithography,IBM research

Bildnummer 11694712
Nanowire lithography,IBM research
Nanowire lithography,IBM research. IBM scientist Hesham Ghoneim holding a silicon wafer with lithographically patterned gold pads on top. These are used to contact silicon nanowires. The silicon nanowires are grown via a VLS (Vapor-Liquid-Solid) process and then transferred on to the silicon wafer. Contact leads and gate electrodes are then written with electron beam lithography from the pre-patterned gold pads to the nanowire. Nanowires are a candidate technology for extending current computing capabilities. Photographed in June 2009,at IBM Research-Zurich,Switzerland
Lizenzart: Lizenzpflichtig
Credit: Science Photo Library / IBM Research
Bildgröße: 2414 px × 3621 px
Modell-Rechte: Derzeit liegt noch kein Release vor. Bitte kontaktieren Sie uns vor Verwendung.
Eigentums-Rechte: nicht erforderlich
Restrictions:
  • Editorial Use Only

Preise für dieses Bild ab 15 €

Universitäten & Organisationen
(Informationsmaterial Digital, Informationsmaterial Print, Lehrmaterial Digital etc.)
ab 15 €
Redaktionell
(Bücher, Bücher: Sach- und Fachliteratur, Digitale Medien (redaktionell) etc.)
ab 30 €
Werbung
(Anzeigen, Aussenwerbung, Digitale Medien, Fernsehwerbung, Karten, Werbemittel, Zeitschriften etc.)
ab 55 €
Handelsprodukte
(bedruckte Textilie, Kalender, Postkarte, Grußkarte, Verpackung etc.)
ab 75 €
Pauschalpreise
Rechtepakete für die unbeschränkte Bildnutzung in Print oder Online
ab 495 €

Keywords

;